第一章 三氟化氮產(chǎn)品概述

　　1.1 電子特種氣體——三氟化氮概述

　　1.2 三氟化氮的產(chǎn)業(yè)與市場(chǎng)簡(jiǎn)述

　　1.3 三氟化氮行業(yè)的特點(diǎn)

　　1.4 在當(dāng)前環(huán)境保護(hù)要求的形勢(shì)變化下三氟化氮產(chǎn)品發(fā)展前景成為變數(shù)

第二章 電子特種氣體、氟化工品應(yīng)用市場(chǎng)

　　2.1 電子特種氣體概述

　　2.2 電子特種氣體制造中的主要技術(shù)方面

　　2.3 電子特種氣體的純凈度要求

　　2.4 電子特種氣體產(chǎn)品市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的焦點(diǎn)問(wèn)題

　　2.5 國(guó)內(nèi)外電子特種氣體行業(yè)發(fā)展概述

　　2.6 氟化工產(chǎn)業(yè)概述

第三章 三氟化氮的主要特性

　　3.1 物理特性

　　3.2 毒性及危險(xiǎn)性

　　3.3 反應(yīng)性

　　3.4 相關(guān)的安全性

　　3.5 主要性能及標(biāo)準(zhǔn)

第四章 三氟化氮的主要生產(chǎn)工藝方法

　　4.1 NF3的制備方法

　　4.2 NF3粗品純化工藝加工

　　4.3 安全生產(chǎn)的問(wèn)題

　　4.4 在半導(dǎo)體晶元工廠的供應(yīng)系統(tǒng)

第五章 三氟化氮的主要應(yīng)用領(lǐng)域概述

　　5.1 概述

　　5.2 三氟化氮在集成電路中的應(yīng)用

　　5.3 作為清洗劑、刻蝕劑在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用

　　5.3 三氟化氮在液晶顯示器中的應(yīng)用

　　5.4 高純NF3在薄膜硅太陽(yáng)電池中的應(yīng)用

　　5.5 用三氟化氮作氟化劑

　　5.6 三氟化氮作為氟源在化學(xué)激光器中應(yīng)用

　　5.7 NF3在IC和TFT-LCD應(yīng)用市場(chǎng)擴(kuò)展的三階段

　　5.8 NF3在不同應(yīng)用領(lǐng)域中應(yīng)用量的比例

第六章 世界及我國(guó)NF3的半導(dǎo)體市場(chǎng)調(diào)查與分析

　　6.1 世界半導(dǎo)體硅片生產(chǎn)與市場(chǎng)發(fā)展

　　6.2 我國(guó)半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)與市場(chǎng)現(xiàn)況與發(fā)展

第七章 世界及我國(guó)NF3的液晶顯示器市場(chǎng)調(diào)查與分析

　　7.1 世界平板顯示器產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)況

　　7.2 我國(guó)平板顯示器產(chǎn)業(yè)現(xiàn)況與未來(lái)發(fā)展預(yù)測(cè)分析

第八章 世界及我國(guó)NF3的薄膜硅太陽(yáng)電池市場(chǎng)調(diào)查與分析

　　8.1 國(guó)內(nèi)外光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展

　　8.2 薄膜太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)與市場(chǎng)

　　8.3 國(guó)內(nèi)外薄膜太陽(yáng)能電池的主要生產(chǎn)企業(yè)

第九章 世界NF3的生產(chǎn)現(xiàn)狀與發(fā)展

　　9.1 概述

　　9.2 世界三氟化氮生產(chǎn)現(xiàn)況

　　9.3 美國(guó)的NF3生產(chǎn)現(xiàn)狀與廠家

　　9.4 日本的NF3生產(chǎn)現(xiàn)狀與廠家

　　9.5 韓國(guó)的NF3生產(chǎn)現(xiàn)狀與廠家

　　9.6 中國(guó)臺(tái)灣的NF3生產(chǎn)現(xiàn)狀與廠家

第十章 中-智-林-－我國(guó)國(guó)內(nèi)NF3的生產(chǎn)現(xiàn)狀與發(fā)展

　　10.1 國(guó)內(nèi)NF3生產(chǎn)的發(fā)展

　　10.2 國(guó)內(nèi)NF3生產(chǎn)需求市場(chǎng)

　　10.3 國(guó)內(nèi)NF3的主要生產(chǎn)廠家

　　10.4 國(guó)內(nèi)與NF3氣體相關(guān)的科研、協(xié)會(huì)機(jī)構(gòu)